ブリヂストン、バス乗降時のバリアフリー化に貢献する正着性向上の共同研究成果を発表

株式会社ブリヂストン（本社：東京都中央区京橋、代表取締役ＣＥＯ 兼 取締役会長：津谷正明、以降、ブリヂストン）は12月16日、バス停車時に縁石とタイヤを接触させることにより乗降口と停留所の隙間を小さくする正着性向上について、横浜国立大学、日本交通計画協会と共同研究を実施。今回、新たに「次世代正着縁石・路肩形状」を考案した。